Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • Amorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemieAmorphous ${a-SixNy:H}$ layers on polycrystalline silicon / Maria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ // W: VI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-89541-96-3. — S. 135

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVDGradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Modyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowejSurface modification of the PEEK by using plasma method / Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Karol KYZIOŁ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2015 R. 36 nr 1, s. 33–36. — Bibliogr. s. 36

  • słowa kluczowe: modyfikacja PEEK, obróbka plazmowa, trawienie jonowe powierzchni

    keywords: plasma treatment, PEEK modification, PECVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanieDeposition and properties of ${a-C:N:H}$ layers on polycarbonate / Rafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA // W: VI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-89541-96-3. — S. 47

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

5
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanieDeposition and properties of ${a-C:N:H}$ layers on polycarbonate / Rafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 617–622. — Bibliogr. s. 622

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaiceProperties of amorphous silicon layers ($a-Si:H$) deposited by plasma assisted CVD / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Logistyka ; ISSN 1231-5478. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 426–427, Streszcz., Abstr.

  • słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD

    keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVDChemical reactions responsible for a growth of $a-SiN_{x}:H$ layers in PE CVD system / Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779. — Bibliogr. s. 779, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
  • Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu – warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemieSynergetic layer systems: silicon nitride – transition layer on multicrystalline silicon / Wojciech Bąk, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 864–868. — Bibliogr. s. 867–686

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

9
  • Termooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD[Thermooptical parameters of amorphous a-Si:H layers deposited by PACVD system] / Ewa BARANIAK, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Janusz Jaglarz // W: Dokonania naukowe doktorantów 3 [Dokument elektroniczny] : materiały konferencyjne – streszczenia : materiały Konferencji Młodych Naukowców : Kraków, 18.04.2015 r. / oprac. Marcin Kuczera, Krzysztof Piech. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Kraków : CREATIVETIME, [2015]. — 1 dysk optyczny. — e-ISBN: 978-83-63058-49-4. — S. 86. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 86. — E. Baraniak, M. Jurzecka-Szymacha – afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

10
  • Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVDa-SiNx:H layers of various nitrogen content deposited with PECVD / Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 1260–1264. — Bibliogr. s. 1264

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

11
  • Wpływ parametrów procesu RF CVD na stabilność warstw ${a-C:N:H}$Influence of RF CVD processing parameters on stability of ${a-C:N:H}$ layers / Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Rafał M. NOWAK, Maria JURZECKA // W: VI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-89541-96-3. — S. 136

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

12
  • Wpływ parametrów procesu RF CVD na stabilność warstw ${a-C:N:H}$Influence of RF CVD processing parameters on stability of ${a-C:N:H}$ layers / Karol KYZIOŁ, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Rafał M. NOWAK, Maria JURZECKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 623–630. — Bibliogr. s. 629–630

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: