Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisława Dalczyńska-Jonas, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska

1
  • A role of parameters in RF PA CVD technology of a-C:N:H layers
2
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
3
  • Badanie mechanizmu plazmochemicznej syntezy warstw typu ${a-C:N:H}$
4
  • Badanie przebiegu reakcji wysokotemperaturowych w układzie ${ZrSiO_{4}-Al_{2}O_{3}}$
5
  • Dolomit stabilizowany w składzie nowych odmian materiałów ogniotrwałych
6
  • Efekt Christiansena w warstwach typu $(SiC_{amorf} + SiC_{kryst})/(001)Si$
7
  • Infiltracja porowatych materiałów metodą CVI
8
  • Influence of nitrogen on the tribological properties of $a-C:H$ layers on the polycarbonate substrates
9
  • Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVD
10
  • Model studies of microstructure changes in sintering of ceramics
11
  • Modelowanie struktury atomowej warstw ${a-C:N:H}$ otrzymywanych w warunkach plazmochemicznych
12
  • Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja?
13
  • Otrzymywanie, budowa i właściwości wybranych, synergicznych układów warstwa–podłoże
14
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
15
  • Reakcje chemiczne i procesy fizyczne zachodzące w układzie ${ZrSiO_{4}-Al_{2}O_{3}}$ w wysokich temperaturach
16
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD
17
  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells
18
  • Stability of a-C:N:H layers deposited by RF plasma enhanced CVD
19
  • Wpływ parametrów procesu RF CVD na stabilność warstw ${a-C:N:H}$
20
  • Wybrane aspekty korozji materiałów ogniotrwałych