Amorphous $a-C:N:H$ layers formation by plasma enhanced chemical vapour deposition / Krzysztof DUL, Iwona ŁAGOSZ, Stanisława JONAS, Wiesław PTAK // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2001 R. 22 nr 4, s. 296–298. — Bibliogr. s. 298, Abstr.. — AMT'2001 : XVIth physical metallurgy and materials science conference on Advanced Materials & Technologies : Gdańsk-Jurata, 16–20 September 2001. [Pt. 1]. — Warszawa : SIGMA NOT, 2001

Amorphous hydrogenated silicon-nitrogen $(a-Si_{1-x}N_{x}:H)$ films deposited by PECVD / Stanisława A. JONAS, Tomasz J. STAPIŃSKI, Edward P. WALASEK, Mariusz K. Chrabąszcz // Journal of Wide Bandgap Materials ; ISSN 1524-511X. — 2001 vol. 9 no. 1–2, s. 83–92. — Bibliogr. s. 92, Abstr.

Low temperature IR spectra of $a-C:N:H$ layers / S. JONAS, I. ŁAGOSZ, C. PALUSZKIEWICZ, W. S. PTAK // Journal of Molecular Structure ; ISSN 0022-2860. — 2001 vol. 596 iss. 1–3, s. 101–108. — Bibliogr. s. 107–108, Abstr.. — 3rd International Conference of the Vibrational Spectroscopy in Materials Science : 23–26 September 2000, Krakow, Poland. — tekst: https://www-1sciencedirect-1com-1000027wx0102.wbg2.bg.agh.edu.pl/science/article/pii/S0022286001006950/pdfft?md5=38838d70ebd6143af5844bc24a423fad&pid=1-s2.0-S0022286001006950-main.pdf

Materiały węglowo-grafitowe modyfikowane metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej — Carbon materials modificated using chemical vapour deposition method / S. JONAS, S. KLUSKA, E. WALASEK // Ceramika Materiały Ogniotrwałe ; ISSN 1505-1269. — 2001 R. 53 nr 4, s. 121–130. — Bibliogr. s. 130, Streszcz., Summ.

UHV plasma enhanced CVD system for preparation of new generation amorphous silicon based efficient solar cells / S. JONAS, P. Rava, T. STAPIŃSKI, E. WALASEK // Opto-Electronics Review / Stowarzyszenie Elektryków Polskich, Wojskowa Akademia Techniczna. Warszawa ; ISSN 1230-3402. — 2001 vol. 9 iss. 1, s. 91–95. — Bibliogr. s. 94–95