doktorant
Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji WIEiT-ki, *Katedra Informatyki
ORCID: brak
ResearcherID: brak
Scopus: brak
Fast multi-scale simulations of a Step-and-Flash Imprint Lithography / M. SIENIEK, P. GURGUL, M. PASZYŃSKI // W: APCOM & ISCM 2013 [Dokument elektroniczny] : 5th Asia Pacific Congress on Computional Mechanics & 4th International Symposium on Computational Mechanics : Singapore, 11–14 December, 2013 : proceedings. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Singapore : s. n.], [2013]. — S. 1–8. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: http://www.sci-en-tech.com/apcom2013/APCOM2013-Proceedings/PDF_FullPaper/1484_M.Sieniek.pdf [2014-02-07]. — Bibliogr. s. 8, Abstr.
keywords: multi-frontal solver, nano lithography, linear elasticity with thermal expansion coefficient, multu-scale modeling, molecular statics
Zobacz pełny wykaz publikacji Autora/Autorów: Maciej Paszyński, Piotr Gurgul
cyfrowy identyfikator dokumentu: