Wykaz publikacji wybranego autora

Karolina Drogowska, mgr

doktorant

Wydział Fizyki i Informatyki Stosowanej
WFiIS-kfc, Katedra Fizyki Ciała Stałego


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: H-8445-2014

Scopus: brak

OPI Nauka Polska




1
2
  • Hydrogen charging effects in $Pd/Ti/TiO_{2}/Ti$ thin films deposited on Si(111) studied by ion beam analysis methods / K. DROGOWSKA, S. Flege, C. Schmitt, D. Rogalla, H.-W. Becker, Nhu-T. H. Kim-Ngan, A. BRUDNIK, Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, M. Marszałek, A. G. Balogh // Advances in Materials Science and Engineering [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1687-8434. — 2012 art. no. 269603, s. [1–8]. — Tryb dostępu: http://www.hindawi.com/journals/amse/2012/269603/cta/ [2012-01-19]. — Bibliogr. s. 7–8. — K. Drogowska - dod. afiliacja: Technische Universität Darmstadt

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1155/2012/269603

3
  • Hydrogen storage in Ti, V and their oxides- based thin films : [abstract] / Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, N-T H Kim-Ngan, M. Krupska, S. Sowa, K. DROGOWSKA, L. Havela, A. G. Balogh // W: EYEC monograph : 5\textsuperscript{th} European Young Engineers Conference : April 20–22\textsuperscript{nd} 2016, Warsaw / ed. Michał Wojasiński, Bartosz Nowak ; Scientific Club of Chemical and Process Engineering. Faculty of Chemical and Process Engineering. Warsaw University of Technology. Foundation of Young Science. — Warsaw : Faculty of Chemical and Process Engineering, Warsaw University of Technology, cop. 2016. — ISBN: 978-83-936575-2-0. — S. 174

  • keywords: thin films, XRD, RBS, hydrogeneration, XRR

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
  • Hydrogen storage in Ti, V and their oxides-based thin films / Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, N.-T. H. Kim-Ngan, M. Krupska, S. Sowa, K. DROGOWSKA, L. Havela, A. G. Balogh // Advances in Natural Sciences. Nanoscience and Nanotechnology [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2043-6262. — 2015 vol. 6 no. 1, s. 1–8, art. no. 013002. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 7–8, Abstr.. — 7th International Workshop on Advanced Materials Science and Nanotechnology IWAMSN2014 : 2–6 November, 2014, Ha Long, Vietnam. — tekst: http://iopscience.iop.org/2043-6262/6/1/013002/pdf/2043-6262_6_1_013002.pdf

  • keywords: crystal structure, multi-layers, hydrogen storage, titan oxides, vanadium oxides

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1088/2043-6262/6/1/013002

5
6
7
8
  • $VO_{x}$ thin films deposited by reactive RF sputtering / K. SCHNEIDER, K. DROGOWSKA, A. G. Balogh, Z. TARNAWSKI, N.-T. H. Kim-Ngan, K. ZAKRZEWSKA // W: Reaktywność ciał stałych = Reactivity of solids / pod red. K. Przybylskiego; Polska Akademia Nauk – Oddział w Krakowie, Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2013 + CD. — (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie. Ceramika ; ISSN 0860-3340 ; vol. 115). — ISBN: 978-83-63663-37-7. — S. 305–314. — Bibliogr. s. 313–314, Abstr.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: