Hydrogen storage in Ti, V and their oxides- based thin films : [abstract] / Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, N-T H Kim-Ngan, M. Krupska, S. Sowa, K. DROGOWSKA, L. Havela, A. G. Balogh // W: EYEC monograph : 5\textsuperscript{th} European Young Engineers Conference : April 20–22\textsuperscript{nd} 2016, Warsaw / ed. Michał Wojasiński, Bartosz Nowak ; Scientific Club of Chemical and Process Engineering. Faculty of Chemical and Process Engineering. Warsaw University of Technology. Foundation of Young Science. — Warsaw : Faculty of Chemical and Process Engineering, Warsaw University of Technology, cop. 2016. — ISBN: 978-83-936575-2-0. — S. 174

$VO_{x}$ thin films deposited by reactive RF sputtering / K. SCHNEIDER, K. DROGOWSKA, A. G. Balogh, Z. TARNAWSKI, N.-T. H. Kim-Ngan, K. ZAKRZEWSKA // W: Reaktywność ciał stałych = Reactivity of solids / pod red. K. Przybylskiego; Polska Akademia Nauk – Oddział w Krakowie, Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2013 + CD. — (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie. Ceramika ; ISSN 0860-3340 ; vol. 115). — ISBN: 978-83-63663-37-7. — S. 305–314. — Bibliogr. s. 313–314, Abstr.