Struktura geometryczna powierzchni warstw $SiC$ otrzymanego metodą ECRCVD i MWCVD — Morphology of $SiC$ layers deposited by ECRCVD and MWCVD / Krzysztof DUL, Stanisława JONAS // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2005 R. 26 nr 5, s. 271–273. — Bibliogr. s. 273, Streszcz., Abstr.. — Błędny zapis imienia Autorki: Stanisław. — „Obróbka powierzchniowa'2005” = “Surface treatment'2005” : VI ogólnopolska konferencja naukowa : Częstochowa–Kule, 20–23 września 2005 / pod red.: Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego ; Polskie Towarzystwo Materiałoznawcze. — Warszawa : Wydawnictwo Czasopism i Książek Technicznych SIGMA-NOT Spółka z o. o., 2005. — Na okł. dodatkowo tyt.: 55 lat Wydziału Inżynierii Procesowej, Materiałowej i Fizyki Stosowanej Politechniki Częstochowskiej. — Opis częśc. wg okł.