Wykaz publikacji wybranego autora

Karolina Drogowska, mgr

doktorant

Wydział Fizyki i Informatyki Stosowanej
WFiIS-kfc, Katedra Fizyki Ciała Stałego


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: H-8445-2014

Scopus: brak

OPI Nauka Polska



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem13256
201611
2015312
2013211
2012312
2010211
200922
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem1313
201611
201533
201322
201233
201022
200922
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem1385
201611
2015321
2013211
2012312
2010211
200922
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem1358
201611
2015321
201322
2012321
2010211
200922
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem1376
201611
2015321
201322
2012321
2010211
200922
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem1385
201611
2015321
201322
2012321
2010211
200922



1
  • Characterisation and properties of selected $(V_{1-x}(Cr, Ti)_{x})_{2}O_{3}$ thin films / M. TRAFNY, K. DROGOWSKA, A. KOZŁOWSKI, P. A. Metcalf, M. SZCZERBA, R. P. Socha, J. PRZEWOŹNIK, Z. TARNAWSKI, [et al.] // W: Frontiers in modern physics and its applications : Kraków, Poland, May 28–29, 2009 : conference proceedings / Faculty of Physics and Applied Computer Science. AGH Univeristy of Science and Technology. — [Kraków : AGH FPACS], [2009]. — S. 112–114. — Bibliogr. s. 114

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Characterisation and properties of selected $V_{1-x}(Cr, Ti)_{x}O_{3}$ thin films / M. TRAFNY, K. DROGOWSKA, Nhu-Tarnawska Hoa Kim Ngan, P. A. Metcalf, M. SZCZERBA, R. P. Socha, J. PRZEWOŹNIK, A. KOZŁOWSKI, Z. TARNAWSKI // W: Frontiers in modern physics and its applications : Kraków, Poland, May 28–29, 2009 : conference programme & abstracts / AGH University of Science and Technology. Faculty of Physics and Applied Computer Science. — [Kraków : AGH], [2009]. — S. 61. — Bibliogr. s. 61

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
4
  • Hydrogen charging effects in $Pd/Ti/TiO_{2}/Ti$ thin films deposited on Si(111) studied by ion beam analysis methods / K. DROGOWSKA, S. Flege, C. Schmitt, D. Rogalla, H.-W. Becker, Nhu-T. H. Kim-Ngan, A. BRUDNIK, Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, M. Marszałek, A. G. Balogh // Advances in Materials Science and Engineering [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1687-8434. — 2012 art. no. 269603, s. [1–8]. — Tryb dostępu: http://www.hindawi.com/journals/amse/2012/269603/cta/ [2012-01-19]. — Bibliogr. s. 7–8. — K. Drogowska - dod. afiliacja: Technische Universität Darmstadt

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1155/2012/269603

5
  • Hydrogen profile of $Pd/Ti/TiO_{2}/Ti$ thin films deposited on $Si$(111) studied by SIMS and $N$-15 method / Karolina DROGOWSKA, Z. TARNAWSKI, A. G. Balogh, S. Flege, C. Schmitt, Nhu-T. H. Kim-Ngan, A. BRUDNIK, K. ZAKRZEWSKA, M. Marszalek // W: SIATF 2010 : symposium on Surface and Interface of Advanced Thin Films : 16–17 September, 2010, Kraków, Poland : programme and abstracts / ed. Nhu-Tarnawska Hoa Kim Ngan. — [Kraków : Pedagogical University. Faculty of Mathematics-Physics-Techniques], [2010]. — S. 20. — Błędnie podane nazwisko: K. ZAKRZEWSKA. — K. Drogowska dod. afiliacja: Institute of Material Science. Technische Universit\"at Darmstadt, Germany

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • Hydrogen storage in Ti, V and their oxides- based thin films : [abstract] / Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, N-T H Kim-Ngan, M. Krupska, S. Sowa, K. DROGOWSKA, L. Havela, A. G. Balogh // W: EYEC monograph : 5\textsuperscript{th} European Young Engineers Conference : April 20–22\textsuperscript{nd} 2016, Warsaw / ed. Michał Wojasiński, Bartosz Nowak ; Scientific Club of Chemical and Process Engineering. Faculty of Chemical and Process Engineering. Warsaw University of Technology. Foundation of Young Science. — Warsaw : Faculty of Chemical and Process Engineering, Warsaw University of Technology, cop. 2016. — ISBN: 978-83-936575-2-0. — S. 174

  • keywords: thin films, XRD, RBS, hydrogeneration, XRR

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • Hydrogen storage in Ti, V and their oxides-based thin films / Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, N.-T. H. Kim-Ngan, M. Krupska, S. Sowa, K. DROGOWSKA, L. Havela, A. G. Balogh // Advances in Natural Sciences. Nanoscience and Nanotechnology [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2043-6262. — 2015 vol. 6 no. 1, s. 1–8, art. no. 013002. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 7–8, Abstr.. — 7th International Workshop on Advanced Materials Science and Nanotechnology IWAMSN2014 : 2–6 November, 2014, Ha Long, Vietnam. — tekst: http://iopscience.iop.org/2043-6262/6/1/013002/pdf/2043-6262_6_1_013002.pdf

  • keywords: crystal structure, multi-layers, hydrogen storage, titan oxides, vanadium oxides

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1088/2043-6262/6/1/013002

8
9
10
11
  • Study of Ti, V and their oxides-based thin films in the search for hydrogen storage materials / Z. TARNAWSKI, K. ZAKRZEWSKA, N.-T. H. Kim-Ngan, M. Krupska, S. Sowa, K. DROGOWSKA, L. Havela, A. G. Balogh // W: CCFES2015 [Dokument elektroniczny] : Cracow Colloquium on f-electron systems : Cracow, 24\textsuperscript{th}–27\textsuperscript{th} June 2015 : program and abstracts. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Cracow : s. n.], [2015]. — S. [1–2], P-18. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: http://www.ccfes2015.up.krakow.pl/book-of-abstracts [2017-09-25]

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

12
  • ${VO_{x}}$ thin films deposited by reactive rf sputtering / Krystyna SCHNEIDER, Katarzyna ZAKRZEWSKA, Zbigniew TARNAWSKI, Karolina DROGOWSKA, Nhu-T. H. Kim-Ngan, A. G. Balogh // W: XVI French-Polish seminar on Reactivity of solids : December 10–12, 2012, Kraków, Poland : book of abstracts. — [Kraków : s. n.], [2012]. — S. [1]

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

13
  • $VO_{x}$ thin films deposited by reactive RF sputtering / K. SCHNEIDER, K. DROGOWSKA, A. G. Balogh, Z. TARNAWSKI, N.-T. H. Kim-Ngan, K. ZAKRZEWSKA // W: Reaktywność ciał stałych = Reactivity of solids / pod red. K. Przybylskiego; Polska Akademia Nauk – Oddział w Krakowie, Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2013 + CD. — (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie. Ceramika ; ISSN 0860-3340 ; vol. 115). — ISBN: 978-83-63663-37-7. — S. 305–314. — Bibliogr. s. 313–314, Abstr.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: