Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)





Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 30, z ogólnej liczby 30 publikacji Autora


1
  • [referat, 2007]
  • TytułAmorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ
    ŹródłoVI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — S. 135
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • [referat, 2008]
  • TytułAmorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ
    ŹródłoPostępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — S. 631–637
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • [referat, 2006]
  • TytułAmorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA
    ŹródłoE-MRS 2006 fall meeting : Warsaw (Poland), 4th – 8th September, 2006 : scientific programme and book of abstracts / European Materials Research Society. — [Warsaw : Warsaw University of Technology], [2006]. — S. 38, Poster A/PII.11
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
5
  • [referat w czasopiśmie, 2008]
  • TytułGradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD
    AutorzyMaria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • [artykuł w czasopiśmie, 2015]
  • TytułModyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowej
    AutorzyStanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Karol KYZIOŁ
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2015 R. 36 nr 1, s. 33–36
  • słowa kluczowe: modyfikacja PEEK, obróbka plazmowa, trawienie jonowe powierzchni

    keywords: plasma treatment, PEEK modification, PECVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • [referat, 2015]
  • TytułOn the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap
    AutorzyJanusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH
    ŹródłoSENM 2015 [Dokument elektroniczny] : Smart Engineering of New Materials : 22–25 June 2015 Lodz, Poland : abstract book. — [Lodz : s. n.], [2015]. — S. [1]
  • keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
  • [referat, 2015]
  • TytułOn the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap
    AutorzyStanisława KLUSKA, Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH
    ŹródłoMicroTherm 2015 [Dokument elektroniczny] : Microtechnology and Thermal Problems in Electronics : June 23textsuperscript{rd} – June 25textsuperscript{th} 2015, Lodz, Poland : official proceedings / ed. Jacek Podgórski. — Lodz : Lodz University of Technology, cop. 2015. — S. 31–35
  • keywords: PACVD, band gap, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants, specroscopic ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

9
10
  • [referat, 2007]
  • TytułOtrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
    AutorzyRafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA
    ŹródłoVI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — S. 47
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

11
  • [referat, 2008]
  • TytułOtrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
    AutorzyRafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA
    ŹródłoPostępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — S. 617–622
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

12
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułOtrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoLogistyka. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427
  • słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD

    keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

13
  • [referat, 2007]
  • TytułPE CVD deposition of amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
    AutorzyMaria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA
    ŹródłoELTE 2007 : IX electron technology conference : Kraków 4–7.09.2007 : book of abstracts / eds. Katarzyna Zakrzewska, Halina Czternastek, Barbara Swatowska, Michał Warzecha ; AGH University of Science and Technology. Faculty of Electrical Engineering, Automatics, Computer Science and Electronics. Department of Electronics. — Kraków : Przedsiębiorstwo Wielobranżowe STABIL, [2007]. — S. 257
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

14
15
16
  • [referat, 2010]
  • TytułSilicon nitride layers of various N-content : technology, properties and structure : [abstract]
    AutorzyMaria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława KLUSKA
    ŹródłoTCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — [s. l. : s. n.], [2010]. — S. [1]
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

17
18
  • [referat, 2009]
  • TytułSilicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling
    AutorzyMaria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS
    ŹródłoICCS15 [Dokument elektroniczny] : 15textsuperscript{th} International conference on Composite Structures : Porto, Portugal, June 15–17, 2009. — [Portugal : s. l.], [2009]. — S. 1–3
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

19
  • [fragment książki, 2014]
  • TytułStructure and optical properties of nitrogen-doped silicon and carbon layers deposited by PACVD
    AutorzyEwa PIECZYŃSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA
    ŹródłoEYEC monograph : 3textsuperscript{rd} European Young Engineers Conference : April 29–30textsuperscript{th} 2014, Warsaw / ed. Michał Wojasiński. — Warsaw : University of Technology. Faculty of Chemical and Process Engineering, cop. 2014. — S. 224–225
  • keywords: RF PACVD, ellipsometry, optical filters

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

20
21
  • [referat, 2015]
  • TytułTermooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD
    AutorzyEwa BARANIAK, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Janusz Jaglarz
    ŹródłoDokonania naukowe doktorantów 3 [Dokument elektroniczny] : materiały konferencyjne – streszczenia : materiały Konferencji Młodych Naukowców : Kraków, 18.04.2015 r. / oprac. Marcin Kuczera, Krzysztof Piech. — Kraków : CREATIVETIME, [2015]. — S. 86
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

22
23
24
  • [artykuł w czasopiśmie, 2022]
  • TytułThe optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content
    AutorzyStanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Natalia Nosidlak, Piotr Dulian, Janusz Jaglarz
    ŹródłoMaterials [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne. — 2022 vol. 15 iss. 6 art. no. 2260, s. 1-12. — tekst: https://www.mdpi.com/1996-1944/15/6/2260/pdf
  • keywords: spectroscopic ellipsometry, thermooptical properties, PECVD technique, amorphous SiNx:H layers

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/ma15062260

25
  • [artykuł w czasopiśmie, 2023]
  • TytułThe optical properties of thin film alloys of ZnO, $TiO_2$ and $ZrO_2$ with $Al_2O_3$ synthesised using atomic layer deposition
    AutorzyNatalia Nosidlak, Janusz Jaglarz, Andrea Vallati, Piotr Dulian, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Sylwia Gierałtowska, Aleksandra Seweryn, Łukasz Wachnicki, Bartłomiej S. Witkowski, Marek Godlewski
    ŹródłoCoatings [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne. — 2023 vol. 13 iss. 11 art. no. 1872, s. 1–12. — tekst: https://www.mdpi.com/2079-6412/13/11/1872/pdf?version=1698811743
  • keywords: ellipsometry, optical properties, ALD deposition, thin dielectric films

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/coatings13111872