Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 30, z ogólnej liczby 30 publikacji Autora

1
  • Amorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie
2
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
3
  • Amorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells
4
5
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD
6
  • Modyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowej
7
  • On the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap
8
  • On the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap
9
10
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
11
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanie
12
  • Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaice
13
  • PE CVD deposition of amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon
14
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVD
15
  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells
16
  • Silicon nitride layers of various N-content
17
18
  • Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling
19
  • Structure and optical properties of nitrogen-doped silicon and carbon layers deposited by PACVD
20
  • Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu – warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemie
21
  • Termooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD
22
23
  • The heterostructures of $CuO$ and $SnO_x$ for $NO_2$ detection
24
  • The optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content
25
  • The optical properties of thin film alloys of ZnO, $TiO_2$ and $ZrO_2$ with $Al_2O_3$ synthesised using atomic layer deposition