Wykaz publikacji wybranego autora

Maria Jurzecka-Szymacha, dr inż.

specjalista

Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki
WIMiC-kfmp, Katedra Fizykochemii i Modelowania Procesów


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0002-1368-9199 orcid iD

ResearcherID: B-3923-2017

Scopus: 38361639600

PBN: 5e70937a878c28a0473aa9c5

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)



Statystyka obejmuje publikacje afiliowane AGH od 2008 roku włącznie

typ publikacji
rocznikl. publ.książkifragm.referatyartykułypatentymapyred. czas.inne
ogółem3011415
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015532
201411
2013211
201111
2010312
200911
2008633
200744
200611
język publikacji
rocznikrazempolskojęzyczneanglojęzycznepozostałe języki
ogółem301218
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015523
201411
2013211
201111
2010321
200911
2008642
2007431
200611
kraj wydania
rocznikrazempubl. krajowepubl. zagraniczne
ogółem301911
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015541
201411
201322
201111
2010321
200911
2008651
200744
200611
Lista Filadelfijska
rocznikrazempubl. z LFpubl. pozostałe
ogółem30921
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015514
201411
201322
201111
201033
200911
2008615
200744
200611
punktacja MNiSW
rocznikrazempubl. z pkt. MNiSWpubl. pozostałe
ogółem301812
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015523
201411
2013211
201111
2010321
200911
200866
200744
200611
publikacje recenzowane
rocznikrazempubl. recenzowanepubl. nierecenzowane
ogółem301911
202311
202211
202111
202011
201911
201611
2015523
201411
2013211
201111
2010321
200911
200866
200744
200611



1
  • Amorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemieAmorphous ${a-SixNy:H}$ layers on polycrystalline silicon / Maria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ // W: VI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-89541-96-3. — S. 135

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline siliconAmorficzne warstwy azotku krzemu ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ na polikrystalicznym krzemie / Maria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA, Rafał M. NOWAK, Karol KYZIOŁ // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 631–637. — Bibliogr. s. 637

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Amorphous $a-Si_{x}N_{y}:H$ layers on silicon substrate for application in solar cells / Maria JURZECKA, Stanisława JONAS, Stanisława KLUSKA // W: E-MRS 2006 fall meeting : Warsaw (Poland), 4th – 8th September, 2006 : scientific programme and book of abstracts / European Materials Research Society. — [Warsaw : Warsaw University of Technology], [2006]. — S. 38, Poster A/PII.11

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
5
  • Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVDGradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • Modyfikacja powierzchni PEEK za pomocą plazmy niskotemperaturowejSurface modification of the PEEK by using plasma method / Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Karol KYZIOŁ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2015 R. 36 nr 1, s. 33–36. — Bibliogr. s. 36

  • słowa kluczowe: modyfikacja PEEK, obróbka plazmowa, trawienie jonowe powierzchni

    keywords: plasma treatment, PEEK modification, PECVD

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
  • On the correlation between the chemical composition of the amorphous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: SENM 2015 [Dokument elektroniczny] : Smart Engineering of New Materials : 22–25 June 2015 Lodz, Poland : abstract book. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Lodz : s. n.], [2015]. — Dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • keywords: PACVD, band gap, spectroscopic ellipsometry, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

8
  • On the correlation between the chemical composition of the amrophous $a-Si_{x}C_{y}N_{z}(H)$ layers deposited by PACVD and their band gap / Stanisława KLUSKA, Janusz Jaglarz, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Tomasz STAPIŃSKI, Barbara SWATOWSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // W: MicroTherm 2015 [Dokument elektroniczny] : Microtechnology and Thermal Problems in Electronics : June 23\textsuperscript{rd} – June 25\textsuperscript{th} 2015, Lodz, Poland : official proceedings / ed. Jacek Podgórski. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Lodz : Lodz University of Technology, cop. 2015. — Dysk Flash. — e-ISBN: 978-83-932197-3-5. — S. 31–35. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 34–35, Abstr.

  • keywords: PACVD, band gap, amorphous a-SixCyNz(H) layers, optical constants, specroscopic ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

9
10
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanieDeposition and properties of ${a-C:N:H}$ layers on polycarbonate / Rafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA // W: VI Konferencja Polskiego Towarzystwa Ceramicznego : Zakopane 13–16 września 2007 r. : streszczenia, program / red. z. Zbigniew Pędzich ; Polskie Towarzystwo Ceramiczne. — Kraków : PTC, cop. 2007. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-89541-96-3. — S. 47

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

11
  • Otrzymywanie i właściwości warstw ${a-C:N:H}$ na poliwęglanieDeposition and properties of ${a-C:N:H}$ layers on polycarbonate / Rafał M. NOWAK, Stanisława JONAS, Karol KYZIOŁ, Maria JURZECKA // W: Postępy technologii ceramiki, szkła i budowlanych materiałów wiążących : materiały VI konferencji Polskiego Towarzystwa Ceramicznego pod patronatem Prof. dr hab. inż. Krzysztofa J. Kurzydłowskiego Podsekretarza Stanu w Ministerstwie Nauki i Szkolnictwa Wyższego : Zakopane 2007, [T. 1] = Advances in the technology of ceramic, glass and mineral binding materials / pod red. M. M. Bućko, K. Haberko, Z. Pędzich. — Kraków : Polskie Towarzystwo Ceramiczne, 2008. — (Polski Biuletyn Ceramiczny / Polskie Towarzystwo Ceramiczne) ; (Prace Komisji Nauk Ceramicznych / Polska Akademia Nauk. Oddział w Krakowie ; vol. 103/1. Ceramika ; ISSN 0860-3340). — Opis częśc. wg okł.. — S. 617–622. — Bibliogr. s. 622

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

12
  • Otrzymywanie i właściwości warstw $a-Si:H$ do zastosowań w fotowoltaiceProperties of amorphous silicon layers ($a-Si:H$) deposited by plasma assisted CVD / Ewa PIECZYŃSKA, Piotr BOSZKOWICZ, Maria JURZECKA-SZYMACHA // Logistyka ; ISSN 1231-5478. — 2013 nr 4 dod.: CD Logistyka – nauka : artykuły recenzowane, s. 419–427. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 426–427, Streszcz., Abstr.

  • słowa kluczowe: amorficzny krzem, elipsometria, PACVD

    keywords: amorphous silicon layers, RF PACVD, solar cells, ellipsometry

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

13
  • PE CVD deposition of amorphous ${a-Si_{x}N_{y}:H}$ layers on polycrystalline silicon / Maria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // W: ELTE 2007 : IX electron technology conference : Kraków 4–7.09.2007 : book of abstracts / eds. Katarzyna Zakrzewska, Halina Czternastek, Barbara Swatowska, Michał Warzecha ; AGH University of Science and Technology. Faculty of Electrical Engineering, Automatics, Computer Science and Electronics. Department of Electronics. — Kraków : Przedsiębiorstwo Wielobranżowe STABIL, [2007]. — ISBN10: 83-88309-46-3. — S. 257

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

14
  • Reakcje prowadzące do wzrostu warstw $a-SiN_{x}:H$ w układzie PE CVDChemical reactions responsible for a growth of $a-SiN_{x}:H$ layers in PE CVD system / Piotr BOSZKOWICZ, Stanisława JONAS, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 R. 29 nr 6, s. 776–779. — Bibliogr. s. 779, Streszcz., Abstr.. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

15
  • RF PE CVD deposition of amorphous a-$Si_{x}N_{y}:H$ layers for application in solar cells / Maria JURZECKA, Stanisława KLUSKA, Stanisława JONAS, Halina CZTERNASTEK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Vacuum : Surface Engineering, Surface Instrumentation & Vacuum Technology ; ISSN 0042-207X. — 2008 vol. 82 iss. 10 spec. iss., s. 1128–1132. — Bibliogr. s. 1132, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2008-01-08. — Proceedings of the 9th Electron Technology conference ELTE 2007 : Cracow, 4–7 September 2007 / guest eds. Tadeusz Pisarkiewicz, Barbara Dziurdzia. — [Dorchester] : Elsevier, 2008. — Zastosowano procedurę peer review. — tekst: http://goo.gl/ZWJEX9

  • keywords: solar cells, optical properties, amorphous a-SixNy:H layers, RF CVD method

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.1016/j.vacuum.2008.01.030

16
  • Silicon nitride layers of various N-content : technology, properties and structure : [abstract] / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława KLUSKA // W: TCM 2010 [Dokument elektroniczny] : 3rd international symposium on Transparent Conductive Materials (former TCO) : 17–21 October, 2010, Analipsi/ Herosonissos, Greece. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [s. l. : s. n.], [2010]. — 1 dysk Flash. — S. [1]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

17
18
  • Silicon nitride layers of various n-content: technology, properties and structure modelling / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Piotr BOSZKOWICZ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // W: ICCS15 [Dokument elektroniczny] : 15\textsuperscript{th} International conference on Composite Structures : Porto, Portugal, June 15–17, 2009. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Portugal : s. l.], [2009]. — 1 dysk optyczny. — S. 1–3. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 3, Summ.

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

19
  • Structure and optical properties of nitrogen-doped silicon and carbon layers deposited by PACVD / Ewa PIECZYŃSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA // W: EYEC monograph : 3\textsuperscript{rd} European Young Engineers Conference : April 29–30\textsuperscript{th} 2014, Warsaw / ed. Michał Wojasiński. — Warsaw : University of Technology. Faculty of Chemical and Process Engineering, cop. 2014. — Na okł. dod.: 100 lecie odnowienia tradycji Politechniki Warszawskiej. — ISBN: 978-83-936575-0-6. — S. 224–225

  • keywords: RF PACVD, ellipsometry, optical filters

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

20
  • Synergiczne układy warstwowe: azotek krzemu – warstwa przejściowa na multikrystalicznym krzemieSynergetic layer systems: silicon nitride – transition layer on multicrystalline silicon / Wojciech Bąk, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława JONAS, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 R. 31 nr 4, s. 864–868. — Bibliogr. s. 867–686

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

21
  • Termooptyczne właściwości warstw a-Si:H otrzymywanych w procesie PACVD[Thermooptical parameters of amorphous a-Si:H layers deposited by PACVD system] / Ewa BARANIAK, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Janusz Jaglarz // W: Dokonania naukowe doktorantów 3 [Dokument elektroniczny] : materiały konferencyjne – streszczenia : materiały Konferencji Młodych Naukowców : Kraków, 18.04.2015 r. / oprac. Marcin Kuczera, Krzysztof Piech. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — Kraków : CREATIVETIME, [2015]. — 1 dysk optyczny. — e-ISBN: 978-83-63058-49-4. — S. 86. — Wymagania systemowe: Adobe Reader ; napęd CD-ROM. — Bibliogr. s. 86. — E. Baraniak, M. Jurzecka-Szymacha – afiliacja: Akademia Górniczo-Hutnicza

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

22
23
24
  • The optical and thermo-optical properties of non-stoichiometric silicon nitride layers obtained by the PECVD method with varying levels of nitrogen content / Stanisława KLUSKA, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Natalia Nosidlak, Piotr Dulian, Janusz Jaglarz // Materials [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1996-1944. — 2022 vol. 15 iss. 6 art. no. 2260, s. 1-12. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 11-12, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2022-03-18. — tekst: https://www.mdpi.com/1996-1944/15/6/2260/pdf

    orcid iD
  • keywords: spectroscopic ellipsometry, thermooptical properties, PECVD technique, amorphous SiNx:H layers

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/ma15062260

25
  • The optical properties of thin film alloys of ZnO, $TiO_2$ and $ZrO_2$ with $Al_2O_3$ synthesised using atomic layer deposition / Natalia Nosidlak, Janusz Jaglarz, Andrea Vallati, Piotr Dulian, Maria JURZECKA-SZYMACHA, Sylwia Gierałtowska, Aleksandra Seweryn, Łukasz Wachnicki, Bartłomiej S. Witkowski, Marek Godlewski // Coatings [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2079-6412. — 2023 vol. 13 iss. 11 art. no. 1872, s. 1–12. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 11–12, Abstr.. — Publikacja dostępna online od: 2023-10-31. — tekst: https://www.mdpi.com/2079-6412/13/11/1872/pdf?version=1698811743

    orcid iD
  • keywords: ellipsometry, optical properties, ALD deposition, thin dielectric films

    cyfrowy identyfikator dokumentu: 10.3390/coatings13111872