Wykaz publikacji wybranego autora

Tomasz Moskalewicz, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
WIMiIP-kip, Katedra Inżynierii Powierzchni i Analiz Materiałów


  • 2022

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-7142-452X orcid iD

ResearcherID: B-7106-2013

Scopus: 8555692700

PBN: 5e70920b878c28a04738f0e4

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
2
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułCharacterization of ${Al-Mg}$ thin film deposited using pulsed laser deposition technique
    AutorzyAgnieszka RADZISZEWSKA, Tomasz MOSKALEWICZ
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2013 R. 34 nr 3, s. 192–195
  • słowa kluczowe: mikrostruktura, skład chemiczny, skład fazowy, cienkie warstwy, PLD, stop Al-MG

    keywords: PLD, microstructure, chemical composition, phase composition, thin films, Al-Mg alloy

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułCharacterization of $Ti/TiN$ multilayer coating deposited using PLD technique
    AutorzyMonika SOLECKA, Agnieszka RADZISZEWSKA, Kazimierz KOWALSKI, Tomasz MOSKALEWICZ
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2013 R. 34 nr 4, s. 374–377
  • słowa kluczowe: powłoka, ablacja laserowa, Ti, TiN, tribologiczne multiwarstwy

    keywords: pulsed laser deposition, Ti, TiN, coating, tribological multilayer

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

4
5
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułMicrostructure of doped $Bi_{2}O_{3}$ thin films deposited by PLD technique
    AutorzySławomir KĄC, Tomasz MOSKALEWICZ
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2013 R. 34 nr 4, s. 295–298
  • słowa kluczowe: cienkie warstwy, PLD, ablacja laserowa, tlenek bizmutu, osadzanie impulsowe z fazy gazowej

    keywords: bismuth oxide, thin film, PLD, pulsed laser deposition, laser ablation

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

6
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułNanocomposite carbon- or $MoS_{2}$-based selflubricating coatings for automotive, aviation and spacecraft industries
    AutorzyBogdan Wendler, Tomasz MOSKALEWICZ, Dariusz Rudnik, Sławomir ZIMOWSKI, Marcin KOT, Marcin Grobelny, Wojciech Pawlak, Adam Rylski, Aleksandra CZYRSKA-FILEMONOWICZ, Marcin Makówka, Piotr Nolbrzak, Katarzyna Włodarczyk
    ŹródłoComposites Theory and Practice : [czasopismo naukowe Polskiego Towarzystwa Materiałów Kompozytowych]. — 2013 R. 13 nr 1, s. 52–58. — tekst: https://kompozyty.ptmk.net/pliczki/pliki/10_2013_t1_Wendler.pdf
  • słowa kluczowe: nanokompozyty, powłoki, MoS2, nc-WC/a-C, nano/mikrostruktura, tarcie suche, odporność na zużycie i korozję, ochrona przed korozją

    keywords: nano composites, coatings, nano structure, MoS2, nc-WC/a-C, dry friction, resistance to crossion and wear, protection against galling

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

7
8
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułSupertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/alpha-Si_{3}N_{4}$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego
    AutorzyBogdan Wendler, Ivan Progalski, Tomasz MOSKALEWICZ, Wojciech Pawlak, Adam Rylski, Marcin Makówka, Katarzyna Włodarczyk-Kowalska, Piotr Nolbrzak
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2013 R. 34 nr 5, s. 563–567
  • słowa kluczowe: TiN, alfa-Si3N4, powłoka nanostrukturalna, powłoka supertwarda, duża wartość modułu Younga, rozpylanie megatronowe, rozpylanie impulsowe, plazma impulsowa, duża gęstość plazmy, duże natężenie emisji promieniowania elektromagnetycznego

    keywords: TiN, magnetron sputtering, alfa-Si3N4, nano structured coating, superhard coating, gas pulsed sputtering, impulse plasma, high Young's modulus, high density plasma, high emission intensity of the electromagnetic radiation

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

9