Wykaz publikacji wybranego autora

Tomasz Moskalewicz, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
WIMiIP-kip, Katedra Inżynierii Powierzchni i Analiz Materiałów


  • 2022

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-7142-452X orcid iD

ResearcherID: B-7106-2013

Scopus: 8555692700

PBN: 5e70920b878c28a04738f0e4

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • Characterisation of microporous oxide layer synthesized on ${Ti-6Al-7Nb}$ alloy by micro-arc oxidation
2
  • Characterization of ${Al-Mg}$ thin film deposited using pulsed laser deposition technique
3
  • Characterization of ${Al-Mg}$ thin films obtained using pulsed laser deposition technique
4
  • Characterization of Ti/TiN multilayer coating deposited using PLD technique
5
  • Characterization of $Ti/TiN$ multilayer coating deposited using PLD technique
6
  • Microstructure of doped ${Bi_{2}O_{3}}$ thin films deposited by PLD technique
7
  • Microstructure of doped $Bi_{2}O_{3}$ thin films deposited by PLD technique
8
  • Nanocomposite carbon- or $MoS_{2}$-based selflubricating coatings for automotive, aviation and spacecraft industries
9
  • Supertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/\alpha-Si3N4$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego
10
  • Supertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/\alpha-Si_{3}N_{4}$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego
11
  • XRD, TEM and HRTEM investigations of nanostructured superhard $TiN/Si_{3}N_{4}$ coatings deposited by means of a novel gas pulsed reactive magnetron sputtering