Wykaz publikacji wybranego autora

Tomasz Moskalewicz, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
WIMiIP-kip, Katedra Inżynierii Powierzchni i Analiz Materiałów


  • 2022

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)


  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)


[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-7142-452X orcid iD

ResearcherID: B-7106-2013

Scopus: 8555692700

PBN: 5e70920b878c28a04738f0e4

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)




1
  • [referat, 2013]
  • TytułSupertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/alpha-Si3N4$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego
    AutorzyBogdan Wendler, Ivan Progalski, Tomasz MOSKALEWICZ, Wojciech Pawlak, Adam Rylski, Marcin Makówka, Katarzyna Włodarczyk-Kowalska, Piotr Nolbrzak
    ŹródłoNowoczesne technologie w inżynierii powierzchni : V ogólnopolska konferencja naukowa : 18–21 września 2013, Łódź–Spała : [streszczenia] / red. nauk. Tomasz Kapitaniak ; Politechnika Łódzka. Instytut Inżynierii Materiałowej. — Łódź : Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej, cop. 2013. — S. 33
  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • [artykuł w czasopiśmie, 2013]
  • TytułSupertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/alpha-Si_{3}N_{4}$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego
    AutorzyBogdan Wendler, Ivan Progalski, Tomasz MOSKALEWICZ, Wojciech Pawlak, Adam Rylski, Marcin Makówka, Katarzyna Włodarczyk-Kowalska, Piotr Nolbrzak
    ŹródłoInżynieria Materiałowa. — 2013 R. 34 nr 5, s. 563–567
  • słowa kluczowe: TiN, alfa-Si3N4, powłoka nanostrukturalna, powłoka supertwarda, duża wartość modułu Younga, rozpylanie megatronowe, rozpylanie impulsowe, plazma impulsowa, duża gęstość plazmy, duże natężenie emisji promieniowania elektromagnetycznego

    keywords: TiN, magnetron sputtering, alfa-Si3N4, nano structured coating, superhard coating, gas pulsed sputtering, impulse plasma, high Young's modulus, high density plasma, high emission intensity of the electromagnetic radiation

    cyfrowy identyfikator dokumentu: