Wykaz publikacji wybranego autora

Tomasz Moskalewicz, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
WIMiIP-kip, Katedra Inżynierii Powierzchni i Analiz Materiałów

  • 2022

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)

  • 2018

    [dyscyplina 1] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria biomedyczna

    [dyscyplina 2] dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych / inżynieria materiałowa (50%)

[poprzednia klasyfikacja] obszar nauk technicznych / dziedzina nauk technicznych / inżynieria materiałowa

Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: 0000-0001-7142-452X orcid iD

ResearcherID: B-7106-2013

Scopus: 8555692700

PBN: 5e70920b878c28a04738f0e4

OPI Nauka Polska

System Informacyjny AGH (SkOs)

1

  • Supertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/\alpha-Si3N4$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego — [Superhard nanocrystalline $TiN/\alpha-Si3N4$ coatings deposited on Vanadis 23 steel by magnetron sputtering] / Bogdan Wendler, Ivan Progalski, Tomasz MOSKALEWICZ, Wojciech Pawlak, Adam Rylski, Marcin Makówka, Katarzyna Włodarczyk-Kowalska, Piotr Nolbrzak // W: Nowoczesne technologie w inżynierii powierzchni : V ogólnopolska konferencja naukowa : 18–21 września 2013, Łódź–Spała : [streszczenia] / red. nauk. Tomasz Kapitaniak ; Politechnika Łódzka. Instytut Inżynierii Materiałowej. — Łódź : Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej, cop. 2013. — Na okł dod.: Fabryka Inżynierów. — Opis częśc. wg okł.. — ISBN: 978-83-7283-556-7. — S. 33

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2

  • Supertwarde, nanostrukturalne powłoki $TiN/\alpha-Si_{3}N_{4}$ na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego — Superhard, nanostructured $TiN/\alpha-Si_{3}N_{4}$ coatings on Vanadis 23 HS steel deposited with use of a new gas pulsed magnetron sputtering technique / Bogdan Wendler, Ivan Progalski, Tomasz MOSKALEWICZ, Wojciech Pawlak, Adam Rylski, Marcin Makówka, Katarzyna Włodarczyk-Kowalska, Piotr Nolbrzak // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2013 R. 34 nr 5, s. 563–567. — Bibliogr. s. 567

  • słowa kluczowe: TiN, alfa-Si3N4, powłoka nanostrukturalna, powłoka supertwarda, duża wartość modułu Younga, rozpylanie megatronowe, rozpylanie impulsowe, plazma impulsowa, duża gęstość plazmy, duże natężenie emisji promieniowania elektromagnetycznego

    keywords: TiN, magnetron sputtering, alfa-Si3N4, nano structured coating, superhard coating, gas pulsed sputtering, impulse plasma, high Young's modulus, high density plasma, high emission intensity of the electromagnetic radiation

    cyfrowy identyfikator dokumentu: