Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego w układzie $Ti-O_{2}$ — [Control of magnetron reactive sputtering in $Ti-O_{2}$ composition] / Andrzej BRUDNIK, Adam CZAPLA, Edward KUSIOR, Witold Posadowski // W: TJ'99 : Techniki Jonowe : VI ogólnopolskie seminarium : Szklarska Poręba 3–5 marca 1999 r. / Politechnika Wrocławska. Instytut Techniki Mikrosystemów. — [Wrocław : PW], [1999]. — ISBN10: 83-7085-438-9. — S. 43–46. — Bibliogr. s. 46, Abstr.

Sterowanie procesem reaktywnego rozpylania Al w atmosferze $Ar-N_{2}$ — Control of aluminium reactive sputtering in argon-nitrogen gas mixture / A. BRUDNIK, A. CZAPLA, W. Posadowski // W: Modern plasma surface technology : 11 Międzynarodowa Szkoła Letnia Mielno'99 : 10–14.05.1999 / pod red. nauk. Witolda Prechta ; Politechnika Koszalińska. Katedra Inżynierii Materiałowej. Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej ; Sekcja Plazmowej Inżynierii Powierzchni Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; International Union of Vacuum Science and Technical Application. Div. Vacuum Metallurgy. — Koszalin : Wydawnictwo Uczelniane PK, 1999. — Na okł. także podtyt. w j. ang.: 11\textsuperscript{th} International Summer School Mielno'99. — S. 159–165. — Bibliogr. s. 165, Streszcz., Abstr.