Wykaz publikacji wybranego autora

Stanisław Nowak, prof. dr hab. inż.

profesor zwyczajny

* Wydział Elektrotechniki, Automatyki, Informatyki i Elektroniki
WEAIiE-ke, * Katedra Elektroniki


Identyfikatory Autora Informacje o Autorze w systemach zewnętrznych

ORCID: brak

ResearcherID: brak

Scopus: brak

OPI Nauka Polska



Liczba pozycji spełniających powyższe kryteria selekcji: 3, z ogólnej liczby 47 publikacji Autora


1
  • Sposób termicznego pomiaru natężenia przepływu płynu oraz miernik termorezystancyjny do pomiaru natężenia przepływu płynu[Flow measuring method and flow meter therefor] / wynalazca: Alina Magońska, Zbigniew MAGOŃSKI, Stanisław NOWAK. — Int.Cl.\textsuperscript{7}: G01F 1/68. — Polska. — Opis patentowy ; PL 179157 B1 ; Udziel. 2000-02-01 ; Opubl. 2000-07-31. — Zgłosz. nr P.312048 z dn. 1995-12-22. — tekst: http://patenty.bg.agh.edu.pl/pelneteksty/PL179157B1.pdf

  • słowa kluczowe: pomiar natężenia przepływu płynów, miernik termorezystancyjny

    keywords: flow meter, flow measuring

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

2
  • Sposób wywoływania wzorów precyzyjnych struktur grubowarstwowych i urządzenie do wywoływania wzorów precyzyjnych struktur grubowarstwowych[Method for generation of precision thick-layer structure patterns and equipment for generating precision thick-layer structure patterns] / Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa ; wynalazca: DZIURDZIA Barbara, Cież Michał, MAGOŃSKI Zbigniew, NOWAK Stanisław. — Int.Cl.\textsuperscript{7}: C25D 3/00. — Polska. — Opis zgłoszeniowy wynalazku ; PL 362452 A1 ; Opubl. 2005-04-04. — Zgłosz. nr P.362452 z dn. 2003-09-26 // Biuletyn Urzędu Patentowego ; ISSN 0137-8015 ; 2005  nr 7, s. 77. — Brak afiliacji AGH. — tekst: http://patenty.bg.agh.edu.pl/pelneteksty/PL362452A1.pdf

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu:

3
  • Sposób wywoływania wzorów precyzyjnych struktur grubowarstwowych i urządzenie do wywoływania wzorów precyzyjnych struktur grubowarstwowych[Method for generation of precision thick–layer structure patterns and equipment for generating precision thick–layer structure patterns] / Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa ; wynalazca: Barbara DZIURDZIA, Michał Cież, Zbigniew MAGOŃSKI, Stanisław NOWAK. — Int.Cl.: H05K 3/00\textsuperscript{(2006.01)}. — Polska. — Opis patentowy ; PL 202552 B1 ; Udziel. 2008-12-17 ; Opubl. 2009-07-31. — Zgłosz. nr P.362452 z dn. 2003-09-26. — tekst: http://patenty.bg.agh.edu.pl/pelneteksty/PL202552B1.pdf

  • brak zdefiniowanych słów kluczowych

    cyfrowy identyfikator dokumentu: